氧化铝高剪切胶体磨对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均匀度达***，是超微粒加工的理想设备。

一、产品名称关键词：氧化铝高剪切纳米胶体磨,三氧化二铝高速胶体磨,研磨分散机,实验室小试胶体磨,18000rpm胶体磨

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二、三氧化二铝特性

Al2O3抛光液的缺点在于选择性低、分散稳定性不好、易团聚等，但对于硬底材料蓝宝石衬底等却具有优良的去除速率。不过，由于纳米α-氧化铝的硬度很高，因此抛光时易对工件表面造成严重的损伤；而且纳米氧化铝的表面能比较高，粒子易团聚，也会造成抛光工件的划痕、凹坑等表面缺陷。近年来对氧化铝抛光液的研究主要集中在纳米磨料制备、氧化铝颗粒表面改性、氧化铝抛光液混合应用等方面。

三、常用的制备工艺

固相法。其中的硫酸铝铵热解法、改良拜尔法、爆炸法等是比较成熟的制备方法。固相法制备超细粉体的流程简单，无需溶剂，产率较高，但生成的粉体易产生团聚，且粒度不易控制，难以得到分布均匀的小粒径的高质量纳米粉体。

气相法。主要有化学气相沉淀法，通过加热等方式改变物质形态，在气体状态下发生反应，之后在冷却过程中形成颗粒。气相法的优点是反应条件可以控制、产物易精制，颗粒分散性好、粒径小、分布窄，但产出率低，粉末难收集。

液相法。常见的有水解、喷雾干燥、溶胶凝胶、乳化等几种方法。液相法的优点体现在：可***控制产物的化学组成，纳米粒子的表面活性高，形状容易控制分散均匀，生产成本比较低，容易实现工业化生产。

四、高剪切胶体磨应用于氧化铝

高剪切胶体磨转移因子胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。XM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料。

五、高剪切胶体磨
胶体磨XM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，XM在摩擦状态下工作，因此也被称做湿磨。在锥形转载和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口问题，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。XM2000整机采用几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

以下为型号表供参考：

氧化铝高剪切纳米胶体磨