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日化膏霜成套反应釜,日用化妆品成套真空乳化机SID/希德LD
  • 产品型号:
  • 更新时间:2025-07-31
简要描述:

日化膏霜成套反应釜能在真空或压力环境下,实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。

产品详情
产品特性:真空乳化应用领域:成套反应釜物料类型:日化膏霜
适用物料:日化膏霜动力类型:电动品牌:SID/希德
型号:LD别名:日用化妆品成套反应釜产品类型:全新
操作类型:自动规格:LD

详细介绍


日化膏霜成套反应釜,膏霜成套化学反应器乳液合成工艺反应器日用化妆品成套反应釜,成套乳化设备


 (详情及价格,咨询公司仝  有样机可免费实验!)

1.wl目的满足客户包括膏霜,乳液,啫喱,洗护用品等的研发及中试配方工艺等要求,为满足生产工艺的稳定及成熟性提供***保障。

 2.物料及工况描述:

通过把预处理好的水相和油相通过不同形式的添加进我司的15L成套反应釜内,升温至80-90度左右进行混合,乳化,均质等工艺形成以水包油或者油包水的乳液,通过降温形成一定的粘度后有效均匀的混合辅料及温敏性的功能性产品,最终形成具有一定粘度的霜乳体系的产品。

 3.设备简介:

LD标准系列的处理量有1L、2L、5L、10L等系列,能在真空或压力环境下,实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。

 

处理产品:膏霜,乳液等日用化妆品 

处 理 量:15L/批 

工作温度:<95℃ 

工作压力:-0.09~+0.05 MPa 

物料粘度:≤150000 CPs 

工艺要求:分散、均质、乳化 

 

设备组成部分:

 一、反应釜系统 

二、乳化系统 

三、搅拌系统 

四、测温系统 

五、电动升降系统 

六、倒料系统 

七、真空系统 

八、电控系统 

九、水浴锅系统 

 

技术数据 

最小允许搅拌量:4L 

最小允许乳化量:4L(配制量) 

允许工作量:15L 

全容积:24L 

设计温度:<120℃ 

主要接触物料材质:SS316L (釜体)SS316L 

支架提升高度: ≤600mm 

工作压力范围:-0.09~0.05 Mpa 

釜体设计压力范围:-0.1~0.1 Mpa

 

日化膏霜成套反应釜适用科研领域:石油化工、化学、制药、高分子、冶金、环保等化工过程领域。如高压反应,加氢反应,催化反应,合成工艺,***合成,高压聚合,纳米合成,条件筛选,结晶筛选,组合化学,生物质转换,超临界反应,水热反应,高分子合成,电化学腐蚀测试、红外探等等。



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